EMS事業

製品納入実績

FPD製造装置関係

周辺露光装置 FPD製造装置関係

周辺露光装置

液晶パネルの製造工程において、ガラス基板上の不要なフォトレジストを除去するために露光することを目的とした装置です。

レーザータイトラ装置 FPD製造装置関係

レーザータイトラ装置

対象となる製品や、目的によって製品管理用のID情報を2次元コードやOCR文字としてガラス基板にマーキングする装置です。

真空乾燥装置 FPD製造装置関係

真空乾燥装置

液晶パネルの製造工程において、塗布装置でガラス基板上に塗布されたレジストを即座に真空乾燥する装置です。

レジスト塗布装置 FPD製造装置関係

レジスト塗布装置

ガラス基板にレジストを塗布する装置です。

半導体製造装置関係

レジスト塗布装置 FPD製造装置関係

真空プロセス装置(プラズマ使用)

自社開発のプラズマソースを搭載した半導体製造プロセス装置です。エッチング装置,アッシング装置など。

ポリシング装置(バックグラインダ) 半導体製造装置関係

ポリシング装置(バックグラインダ)

薄型ウェハ製造における裏面研磨を行う装置です。

二次電池製造装置関係

真空加熱乾燥炉 二次電池製造装置関係

真空加熱乾燥炉

金属コンタミ対策を施し、処理レシピ設定により、真空・加熱・冷却工程を自在に制御できる乾燥炉です。

太陽電池製造装置関係

ロールtoロール装置

レーザースクライブ装置 太陽電池製造装置関係

レーザースクライブ装置

レーザーを使用して太陽電池基材の薄膜をパターニングする装置です。

真空加熱乾燥炉 二次電池製造装置関係

スリッター装置

ロール状になったフィルムや紙等の長尺巻物を、巻き出し側から巻き取り側に送り出す際、任意の幅で連続的にカットし、巻き取る装置です。

技術統括部

自社製品開発/設計のみならず、お客様の仕様書に基づいた設計協力も行なっております。

3次元CADへの取り組み

関連施設・設備紹介【クリーンルーム・ドライルーム・水分測定機】

大型クリーンルーム
国内最大級のクリーンルームを設備
大型ライン装置組立も可能な広いクリーンルーム設備事業を柱にFPD・半導体・二次電池を含むクリーンエネルギー関連装置から各種一般産業用自動化省力化装置まで幅広い分野の装置を製作しています。

ドライルーム

  1. 露点温度-30℃(室内)[-50℃(給気)]
    @2名入室時
  2. 室内温度25±3℃
  3. 換気回数14回/h
  4. 室内寸法6mx4mxH2.5m(60m3)
  5. 入口寸法W1.2mxH2m
ドライルーム 操作盤 ドライルーム 外観 ドライルーム 室内

水分測定機

電量法水分計

  1. 測定器三菱化学アナリテック社製CA-200
  2. 測定方式カールフィッシャー電量適定法
  3. 測定範囲10μgから100mg H2O
  4. 検出感度0.1μg H2O

気化装置

  1. 装置三菱化学アナリテック社製VA-200
  2. 加熱温度70~300℃
  3. 試料量10g以下
  4. 測定範囲5ppm以上

天秤

  1. 測定器A&D社製分析用電子天秤GR202
  2. ひょう量42/210g
  3. 最小表示量0.01/0.1mg

水分測定機 水分計
水分測定機 秤

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