蒸気2流体洗浄装置

半導体への利用にも耐えるクリーンな洗浄

多彩な用途

太陽電池基盤・ガラス基板の洗浄、LEDの金膜剥離等

消耗品不使用

ランニングコストを大幅削減

環境負荷低減

「純水」のみを使用。化学薬品の使用も大幅減

洗浄例

エッチング残渣

皮膚表面のアイシャドー

コア技術

>

装置例

LED用洗浄装置
>
半導体用洗浄装置
>
太陽電池用洗浄装置

仕様

蒸気発生量※ 2 - 100 kg/h
用力 DIW,N2,CDA,200VAC 又は 100VAC
蒸気圧力制御範囲 0.05 - 0.3 MPa
超音速蒸気噴射ノズル
洗浄機本体との通信
※必要な蒸気量に対応するサイズをご用意いたします。
ページの先頭へ戻る
Copyright 2013 MEIKO Co., Ltd. All rights reserved.